FISCHERSCOPE? XDV?-μ光譜儀是Fischer的高端X射線熒光系列,專為在最小的結(jié)構(gòu)上進(jìn)行精確的鍍層厚度測量和材料分析而開發(fā)。所有儀器都配備了一個多毛細(xì)管光學(xué)元件,可將X射線束聚焦到10μm(FWHM)。與采用準(zhǔn)直器的光學(xué)元件相比,多毛細(xì)管光學(xué)元件可以產(chǎn)生高輻射強(qiáng)度,從而大大縮短了測量時間。
所有FischerXRF儀器均配有功能眾多的WinFTM軟件,可在較高的精確度下測量各種應(yīng)用。WinFTM還有一個集成的報表生成工具,您只需單擊一下就可以創(chuàng)建單個報表。此外,WinFTM軟件還提供了向?qū)缘男?zhǔn)。
XDV-μ設(shè)備通過濾波器,電壓和電流設(shè)定的系列組合,允許您為多達(dá)24個元素的復(fù)雜應(yīng)用創(chuàng)造最佳的激勵條件。此外,XDV-μ配備了一個可編程的XY工作臺和模式識別軟件,很容易自動測量多個樣品。
標(biāo)準(zhǔn)版本XDV-μ配備了鎢X射線管,用于常規(guī)應(yīng)用的高精度測試。也可根據(jù)需要選擇鉬和鉻射線管。
XDV-μ儀器配備了一個大面積硅漂移探測器(有效面積50 mm2)和新型的數(shù)字脈沖處理器(DPP+)。這些組件一起使用時,可以實(shí)現(xiàn)很高的計數(shù)率,這有助于最小化測量時間,同時優(yōu)化重復(fù)性。
特殊應(yīng)用的專用儀器
XDV-μ系列包括專門為電子和半導(dǎo)體行業(yè)的特定應(yīng)用量身定制的專用機(jī)型。例如,XDV-μLD是定制用于組裝好的的PCB上進(jìn)行測量,XDV-μWafer具有自動晶片吸盤,并且XDV-μLEAD frame針對測量引線框架鍍層優(yōu)化設(shè)計的。
為了能以最少的時間測量最微小結(jié)構(gòu)的樣品,我們開發(fā)了FISCHERSCOPE? X-RAY XDV?-μ 系列儀器。大面積硅漂移探測器及多毛細(xì)管透鏡確保了在測量諸如鍵合面、表面貼裝器件及細(xì)線等樣品時的高準(zhǔn)確性和高重復(fù)性。這樣就能對印制線路板上的鍍層厚度進(jìn)行長時間且高精度的監(jiān)控。
FISCHERSCOPE? X-RAY XDV?-μ LD 型儀器是您測量大尺寸樣品的理想儀器。由于測量距離可達(dá)12mm,即使是裝配了元器件的PCB也可輕松測量。
配鎢鈀的微聚焦透鏡;鉬靶可選
4個可靈活切換的初級濾波器
專為以短時間測量小尺寸點(diǎn)而設(shè)計的多毛細(xì)管透鏡 (10 – 60 μm FWHM)
20或50 mm2 有效面積的硅漂移探測器
3種放大倍數(shù)視頻顯示,用于精確樣品對位
高精度可編程測量平臺,適用于全自動測量
引線框架測量可信賴的專家。借助 FISCHERSCOPE? X-RAY XDV?-μ LEAD frame,您可以在平面樣品上,在納米范圍內(nèi)高精度測量超薄鍍層的厚度。典型應(yīng)用包括CuFe基體上的Au、Pd和Ni厚度測量。同時,這一X射線熒光儀器也十分適合用來測量NiP層中的P含量。
XDV-μ LEAD frame 配備了專為優(yōu)化低能量段信號而開發(fā)的可切換初級濾波器和多毛細(xì)管透鏡。從而為相應(yīng)的測量需求提供了理想的激發(fā)條件。
氦氣充填,可測量從Na開始的輕元素
P多毛細(xì)管透鏡
高性能Cr靶射線管
4個可自動切換的濾波器
高分辨CCD彩色攝像頭,帶校準(zhǔn)標(biāo)尺的十字線,可調(diào)節(jié)的LED亮度及用于樣品定位的激光標(biāo)記(class 1)
硅漂移探測器
快速、可編程XY平臺,帶有彈出功能和電驅(qū)動Z軸,可用于自動化測量
特點(diǎn)
同時測量從Al(13)到U(92)的多達(dá)24個元素,XDV-μLD:S(16)-U(92)
先進(jìn)的多毛細(xì)管光學(xué)系統(tǒng),可將X射線束聚焦到10μm(FWHM),用于微結(jié)構(gòu)測量
可編程XY工作臺和模式識別,用于多個樣品的自動測量
擴(kuò)展樣品臺方便樣品的定位
向?qū)叫?zhǔn)過程
穩(wěn)健設(shè)計適合長期使用
光學(xué)顯微鏡(放大270倍),顯示圖像和激光定位點(diǎn),可顯示精確的測量點(diǎn)
無需校準(zhǔn)即可進(jìn)行測量的基本參數(shù)分析
符合IPC-4552A、4553A、4554和4556,ASTM B568,ISO 3497標(biāo)準(zhǔn)
Fischer的認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)片可追溯到國際公認(rèn)的基本單位
應(yīng)用
微米和納米范圍內(nèi)的Au/Pd/Ni/CuFe和Sn/Ni鍍層
組裝和未組裝電路板
納米范圍內(nèi)的基底金屬化層(bump metallization,UBM)的測試
測量輕元素,例如 測量金和鈀下的磷含量(在ENEPIG和ENIG中)
銅柱上的無鉛焊料蓋
測試C4和較小焊點(diǎn)的元素組成,以及半導(dǎo)體行業(yè)中的小接觸面
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